製品紹介

化合物半導体基板用研磨剤製品
CHEMISTER CG-, CL-シリーズ

CHEMISTER CG-シリーズは、化合物半導体である、ヒ化ガリウム(GaAs)基板およびリン化ガリウム(GaP)基板用に、CHEMISTER CL-シリーズは、窒化ガリウム(GaN)基板用に開発した研磨剤製品です。これら基板は研磨後にエピタキシャル成長させた後、発光ダイオード(LED)用エピウエハーとして使用されます。
GaAs基板は、赤外センサーLED,プリンタヘッド用の赤色LED用基板として、GaP基板は、赤色~黄色~緑色といった可視光LED用基板として幅広い分野で利用されています。一方、GaN基板は、白色LED,紫外LED,紫色LED,青色LED用基板として、またブルーレイ用の青紫レーザーダイオード(LD)や超小型プロジェクター用の緑色LD用基板として幅広い分野で使用されています。

特徴

以下に化合物半導体基板用研磨剤製品“CHEMISTER CG-シリーズ”および“CL-シリーズ“の特徴と基本特性をご紹介します。

化合物半導体基板用研磨剤 “CHEMISTER CG-シリーズ”の特徴

CHEMISTER CG-シリーズはいずれも粉末製品で、お客様にて純水に溶解してご使用頂く製品です。

CHEMISTER CG-シリーズには、純水に完全溶解する砥粒レスタイプと微粒シリカを配合した砥粒入りタイプの2種類があります。

CG-シリーズは、砥粒レス又は砥粒入りタイプを個々に使用することもできますが、短い加工時間で所定の面品質を得るためには、一次研磨用に砥粒入りを使用し、二次研磨用に砥粒レスを使用する方法が有効です。

お客様での計量作業の手間が省けるように、例えば1Lの純水にそのまま溶解して頂けるような入り目についても対応可能です。

“CHEMISTER CG-シリーズ”の基本物性
項目 CHEMISTER
砥粒レス 砥粒入り
CG-1000 CG-900 CG-1022 CG-650
pH 9.6 9.6 9.1 9.3
有効塩素量[wt%] 10.7 15.5 20.0 10.0

※代表値

GaN基板用研磨剤 “CHEMISTER CL-シリーズ”の特徴

化合物半導体の中でもGaN(Ga面)基板専用に開発した2液型の酸性系研磨剤です。

厳選されたコロイダルシリカと特殊なエッチャントからなり、従来のアルカリ系研磨剤と比較して高研磨Rateが得られます。

研磨後の基板品質として表面粗さRa≦0.2nmを達成できます。

酸性系の研磨スラリーですが、一般的なSUS(SUS304,SUS316)に対する腐食性はありません。

“CHEMISTER CL-シリーズ”の基本物性
項目 CL-10 CL-3301-T2 CL-3306
A剤 pH 10.0 9.5 9.8
密度 [g/ml] 1.29 1.29 1.28
砥粒濃度 [wt%] 40 40 40
平均粒子径 [nm] 40 40 37
B剤 pH 0.9 0.5 0.5
密度 [g/ml] 1.02 1.06 1.06
A剤/B剤 混合比率 [wt%] 50/50 75/25 75/25
Use pH 1.2 1.1 1.0
砥粒濃度 [wt%] 20 30 30

包装

化合物半導体基板用研磨剤製品CHEMISTER CG-シリーズ

お客様での計量作業の手間が省けるように、各種入り目にお応えします。

いずれも軟膏容器詰めで、ご注文数量に応じて段ボール梱包

GaN基板用研磨剤製品CL-シリーズ(2液型)
CL-10の場合

A液: 入り目10kg/個、硬質ポリエチレン製容器詰めの段ボール梱包

B液: 入り目10kg/個、硬質ポリエチレン製容器詰め(個装)

※ A液,B液共に入り目4kg/個 (硬質ポリエチレン製偏平容器詰め、A液とB液のセットで段ボール梱包)も対応可能です。
CL-3301-T2/CL-3306の場合

A液: 入り目12kg/個、軟質ポリエチレン製容器詰め

B液: 入り目4kg/個、硬質ポリエチレン製偏平容器詰め

A液とB液の1セットで段ボール梱包

※ A液:入り目3kg/個 (硬質ポリエチレン製偏平容器詰め),
B液:入り目1kg/個 (硬質ポリエチレン製円柱型容器詰め)も対応可能です。
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